Products
ProductsManufacturersSuppliersRegional supplies
What are you looking for?
Todas las categorías
Compra de forma más inteligente con
Aprovecha la IA para encontrar la coincidencia de producto perfecta en segundos
Coincidencias de más de 100 millones de productos con precisión
Maneja consultas del triple de complejidad en la mitad del tiempo
Verifica y hace validación cruzada de la información del producto
En asociación con
Comprar ahora
Descargar aplicación
Descarga la aplicación Alibaba.com
Encuentra productos, comunícate con proveedores, y administra y paga tus pedidos con la aplicación de Alibaba.com en cualquier momento y cualquier lugar.
Más información

Objetivo de pulverización in2o3 óxido de indio

(22 productos disponibles)

Objetivo de pulverización de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> para recubrimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> para recubrimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> para recubrimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> para recubrimiento al vacío

Objetivo de pulverización de óxido de indio In2O3 para recubrimiento al vacío

44,44-888,80 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Objetivos de cerámica 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de pulverización catódica de óxido de indio para semiconductores
Objetivos de cerámica 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de pulverización catódica de óxido de indio para semiconductores
Objetivos de cerámica 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de pulverización catódica de óxido de indio para semiconductores
Objetivos de cerámica 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de pulverización catódica de óxido de indio para semiconductores
Objetivos de cerámica 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de pulverización catódica de óxido de indio para semiconductores
Objetivos de cerámica 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de pulverización catódica de óxido de indio para semiconductores

Objetivos de cerámica 4N In2O3 Objetivos de pulverización catódica de óxido de indio para semiconductores

verify
88,88-106,66 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Óxido de zinc de indio objetivo de pulverización Ito de calidad superior
Óxido de zinc de indio objetivo de pulverización Ito de calidad superior
Óxido de zinc de indio objetivo de pulverización Ito de calidad superior
Óxido de zinc de indio objetivo de pulverización Ito de calidad superior
Óxido de zinc de indio objetivo de pulverización Ito de calidad superior
Óxido de zinc de indio objetivo de pulverización Ito de calidad superior

Óxido de zinc de indio objetivo de pulverización Ito de calidad superior

248,87-444,40 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Utilizado para el panel táctil de semiconductores Led Óxido de estaño indio ITO <span class=keywords><strong>Sputtering</strong></span> <span class=keywords><strong>Target</strong></span>
Utilizado para el panel táctil de semiconductores Led Óxido de estaño indio ITO <span class=keywords><strong>Sputtering</strong></span> <span class=keywords><strong>Target</strong></span>
Utilizado para el panel táctil de semiconductores Led Óxido de estaño indio ITO <span class=keywords><strong>Sputtering</strong></span> <span class=keywords><strong>Target</strong></span>

Utilizado para el panel táctil de semiconductores Led Óxido de estaño indio ITO Sputtering Target

Listo para enviar
1,34-2,67 €
Pedido mínimo: 100 gramos
Objetivo ITO de metal de tierras raras de alta pureza 99.9%- 99.99%, objetivo de pulverización de óxido de estaño de indio de 1-10 pulgadas
Objetivo ITO de metal de tierras raras de alta pureza 99.9%- 99.99%, objetivo de pulverización de óxido de estaño de indio de 1-10 pulgadas
Objetivo ITO de metal de tierras raras de alta pureza 99.9%- 99.99%, objetivo de pulverización de óxido de estaño de indio de 1-10 pulgadas
Objetivo ITO de metal de tierras raras de alta pureza 99.9%- 99.99%, objetivo de pulverización de óxido de estaño de indio de 1-10 pulgadas

Objetivo ITO de metal de tierras raras de alta pureza 99.9%- 99.99%, objetivo de pulverización de óxido de estaño de indio de 1-10 pulgadas

888,80-3.555,20 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Objetivo de pulverización de óxido de indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de cerámica de disco para recubrimiento PVD
Objetivo de pulverización de óxido de indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de cerámica de disco para recubrimiento PVD
Objetivo de pulverización de óxido de indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de cerámica de disco para recubrimiento PVD
Objetivo de pulverización de óxido de indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de cerámica de disco para recubrimiento PVD
Objetivo de pulverización de óxido de indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de cerámica de disco para recubrimiento PVD
Objetivo de pulverización de óxido de indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos de cerámica de disco para recubrimiento PVD

Objetivo de pulverización de óxido de indio 99.99% In2O3 Objetivos de cerámica de disco para recubrimiento PVD

213,32-222,20 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Objetivo de cerámica ITO semiconductor, uso de recubrimiento óptico, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: Objetivo de 10% en peso
Objetivo de cerámica ITO semiconductor, uso de recubrimiento óptico, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: Objetivo de 10% en peso
Objetivo de cerámica ITO semiconductor, uso de recubrimiento óptico, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: Objetivo de 10% en peso
Objetivo de cerámica ITO semiconductor, uso de recubrimiento óptico, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: Objetivo de 10% en peso
Objetivo de cerámica ITO semiconductor, uso de recubrimiento óptico, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: Objetivo de 10% en peso
Objetivo de cerámica ITO semiconductor, uso de recubrimiento óptico, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: Objetivo de 10% en peso

Objetivo de cerámica ITO semiconductor, uso de recubrimiento óptico, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño indio 99.99% In2O3:SnO2 90: Objetivo de 10% en peso

239,98-253,31 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Objetivo de cerámica ITO Objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso Semiconductor objetivo ITO
Objetivo de cerámica ITO Objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso Semiconductor objetivo ITO
Objetivo de cerámica ITO Objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso Semiconductor objetivo ITO
Objetivo de cerámica ITO Objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso Semiconductor objetivo ITO
Objetivo de cerámica ITO Objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso Semiconductor objetivo ITO
Objetivo de cerámica ITO Objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso Semiconductor objetivo ITO

Objetivo de cerámica ITO Objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% In2O3:SnO2 90: 10% en peso Semiconductor objetivo ITO

204,43-222,20 €
Pedido mínimo: 1 unidad
ITO <span class=keywords><strong>Indium</strong></span>-objetivo de pulverización de óxido de estaño, objetivo con <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>/ SnO2 = 90/10 wt %
ITO <span class=keywords><strong>Indium</strong></span>-objetivo de pulverización de óxido de estaño, objetivo con <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>/ SnO2 = 90/10 wt %
ITO <span class=keywords><strong>Indium</strong></span>-objetivo de pulverización de óxido de estaño, objetivo con <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>/ SnO2 = 90/10 wt %
ITO <span class=keywords><strong>Indium</strong></span>-objetivo de pulverización de óxido de estaño, objetivo con <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>/ SnO2 = 90/10 wt %
ITO <span class=keywords><strong>Indium</strong></span>-objetivo de pulverización de óxido de estaño, objetivo con <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>/ SnO2 = 90/10 wt %
ITO <span class=keywords><strong>Indium</strong></span>-objetivo de pulverización de óxido de estaño, objetivo con <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>/ SnO2 = 90/10 wt %

ITO Indium-objetivo de pulverización de óxido de estaño, objetivo con In2O3/ SnO2 = 90/10 wt %

159,99-177,76 €
Pedido mínimo: 1 unidad

Popular en tu industria

Metales y aleaciones para la fabricación de contenedores

Metales y aleaciones para la fabricación de contenedores

Metales y Aleaciones Construcción

Metales y Aleaciones Construcción

Fabricación de materiales de construcción

Fabricación de materiales de construcción

Metales y aleaciones industriales

Metales y aleaciones industriales

Objetivo de pulverización de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta calidad para revestimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta calidad para revestimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta calidad para revestimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta calidad para revestimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta calidad para revestimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta calidad para revestimiento al vacío

Objetivo de pulverización de óxido de indio In2O3 de alta calidad para revestimiento al vacío

44,44-266,64 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Semiconductor ITO objetivo cerámico Indio Óxido de estaño <span class=keywords><strong>Sputtering</strong></span> <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90:10WT % objetivo
Semiconductor ITO objetivo cerámico Indio Óxido de estaño <span class=keywords><strong>Sputtering</strong></span> <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90:10WT % objetivo
Semiconductor ITO objetivo cerámico Indio Óxido de estaño <span class=keywords><strong>Sputtering</strong></span> <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90:10WT % objetivo
Semiconductor ITO objetivo cerámico Indio Óxido de estaño <span class=keywords><strong>Sputtering</strong></span> <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90:10WT % objetivo
Semiconductor ITO objetivo cerámico Indio Óxido de estaño <span class=keywords><strong>Sputtering</strong></span> <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90:10WT % objetivo
Semiconductor ITO objetivo cerámico Indio Óxido de estaño <span class=keywords><strong>Sputtering</strong></span> <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90:10WT % objetivo

Semiconductor ITO objetivo cerámico Indio Óxido de estaño Sputtering Target 99.99% In2O3:SnO2 90:10WT % objetivo

66,66-71,11 €
Pedido mínimo: 1 unidad

Búsquedas Relacionadas:

óxido de cromo refractario verdepolvo de óxido de cobalto co3o4chromium oxide cr2o3fabricante de óxido de cromo verde 99óxido de cromo ferro rojoóxido de cromo verde en metalurgiapolvo de óxido sintético rojo hierro 110óxido manganomanicoóxido de cromo verde óxido de cromo verdeóxido de cromo verde óxido de cromo verdeóxido de cromo verde de grado refractariorecubrimiento PVD de óxido de niobioóxido de cromo metalúrgicoóxido de cromo verde 99óxido verde de cromo
Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta densidad de pureza 4N
Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta densidad de pureza 4N
Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta densidad de pureza 4N
Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta densidad de pureza 4N
Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta densidad de pureza 4N
Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> de alta densidad de pureza 4N

Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio In2O3 de alta densidad de pureza 4N

verify
159,99-177,76 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Objetivo de pulverización de óxido de estaño y Indio 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para revestimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de estaño y Indio 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para revestimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de estaño y Indio 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para revestimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de estaño y Indio 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para revestimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de estaño y Indio 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para revestimiento al vacío
Objetivo de pulverización de óxido de estaño y Indio 4N <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para revestimiento al vacío

Objetivo de pulverización de óxido de estaño y Indio 4N In2O3:SnO2 90: 10% en peso para revestimiento al vacío

93,33-106,66 €
Pedido mínimo: 1 unidad
99.99% de óxido de indio y estaño ITO/gránulo polvo pulverización objetivo de película delgada capa
99.99% de óxido de indio y estaño ITO/gránulo polvo pulverización objetivo de película delgada capa
99.99% de óxido de indio y estaño ITO/gránulo polvo pulverización objetivo de película delgada capa
99.99% de óxido de indio y estaño ITO/gránulo polvo pulverización objetivo de película delgada capa

99.99% de óxido de indio y estaño ITO/gránulo polvo pulverización objetivo de película delgada capa

44,44-53,33 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Objetivo PVD <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio
Objetivo PVD <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio
Objetivo PVD <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio
Objetivo PVD <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio
Objetivo PVD <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio
Objetivo PVD <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio

Objetivo PVD In2O3 Objetivo de pulverización de disco de óxido de indio

verify
159,99-177,76 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Disco de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso con cobre B/P para recubrimiento
Disco de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso con cobre B/P para recubrimiento
Disco de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso con cobre B/P para recubrimiento
Disco de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso con cobre B/P para recubrimiento
Disco de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso con cobre B/P para recubrimiento
Disco de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso con cobre B/P para recubrimiento

Disco de óxido de estaño e indio 99.99% In2O3:SnO2 90: 10% en peso con cobre B/P para recubrimiento

93,33-106,66 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Óxido de indio <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos cerámicos para recubrimiento óptico
Óxido de indio <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos cerámicos para recubrimiento óptico
Óxido de indio <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos cerámicos para recubrimiento óptico
Óxido de indio <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos cerámicos para recubrimiento óptico
Óxido de indio <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos cerámicos para recubrimiento óptico
Óxido de indio <span class=keywords><strong>Target</strong></span> 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivos cerámicos para recubrimiento óptico

Óxido de indio Target 99.99% In2O3 Objetivos cerámicos para recubrimiento óptico

verify
88,88-106,66 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Objetivo de pulverización iOTO de óxido de estaño indio de alta pureza 99.99%
Objetivo de pulverización iOTO de óxido de estaño indio de alta pureza 99.99%
Objetivo de pulverización iOTO de óxido de estaño indio de alta pureza 99.99%
Objetivo de pulverización iOTO de óxido de estaño indio de alta pureza 99.99%
Objetivo de pulverización iOTO de óxido de estaño indio de alta pureza 99.99%
Objetivo de pulverización iOTO de óxido de estaño indio de alta pureza 99.99%

Objetivo de pulverización iOTO de óxido de estaño indio de alta pureza 99.99%

61,33-88,00 €
Pedido mínimo: 1 unidad
Objetivo cerámico ITO, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para uso de recubrimiento óptico objetivo
Objetivo cerámico ITO, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para uso de recubrimiento óptico objetivo
Objetivo cerámico ITO, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para uso de recubrimiento óptico objetivo
Objetivo cerámico ITO, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para uso de recubrimiento óptico objetivo
Objetivo cerámico ITO, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para uso de recubrimiento óptico objetivo
Objetivo cerámico ITO, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span>:SnO2 90: 10% en peso para uso de recubrimiento óptico objetivo

Objetivo cerámico ITO, objetivo de pulverización catódica de óxido de estaño e indio 99.99% In2O3:SnO2 90: 10% en peso para uso de recubrimiento óptico objetivo

93,33-106,66 €
Pedido mínimo: 1 unidad
99.99% Óxido de indio puro Objetivo de pulverización catódica de cerámica <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de cerámica Materiales ópticos de óxido de indio
99.99% Óxido de indio puro Objetivo de pulverización catódica de cerámica <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de cerámica Materiales ópticos de óxido de indio
99.99% Óxido de indio puro Objetivo de pulverización catódica de cerámica <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de cerámica Materiales ópticos de óxido de indio
99.99% Óxido de indio puro Objetivo de pulverización catódica de cerámica <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de cerámica Materiales ópticos de óxido de indio
99.99% Óxido de indio puro Objetivo de pulverización catódica de cerámica <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de cerámica Materiales ópticos de óxido de indio
99.99% Óxido de indio puro Objetivo de pulverización catódica de cerámica <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de cerámica Materiales ópticos de óxido de indio

99.99% Óxido de indio puro Objetivo de pulverización catódica de cerámica In2O3 Objetivo de cerámica Materiales ópticos de óxido de indio

verify
75,55-88,88 €
Pedido mínimo: 1 kilogramo
Objetivo de cerámica de óxido de indio puro 99.99% Objetivo <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización catódica de óxido de indio Materiales ópticos
Objetivo de cerámica de óxido de indio puro 99.99% Objetivo <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización catódica de óxido de indio Materiales ópticos
Objetivo de cerámica de óxido de indio puro 99.99% Objetivo <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización catódica de óxido de indio Materiales ópticos
Objetivo de cerámica de óxido de indio puro 99.99% Objetivo <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización catódica de óxido de indio Materiales ópticos
Objetivo de cerámica de óxido de indio puro 99.99% Objetivo <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización catódica de óxido de indio Materiales ópticos
Objetivo de cerámica de óxido de indio puro 99.99% Objetivo <span class=keywords><strong>In2O3</strong></span> Objetivo de pulverización catódica de óxido de indio Materiales ópticos

Objetivo de cerámica de óxido de indio puro 99.99% Objetivo In2O3 Objetivo de pulverización catódica de óxido de indio Materiales ópticos

verify
75,55-88,88 €
Pedido mínimo: 1 kilogramo
Objetivo eramic n2O3, objetivo de pulverización de óxido de indio con placa de respaldo de cobre
Objetivo eramic n2O3, objetivo de pulverización de óxido de indio con placa de respaldo de cobre
Objetivo eramic n2O3, objetivo de pulverización de óxido de indio con placa de respaldo de cobre
Objetivo eramic n2O3, objetivo de pulverización de óxido de indio con placa de respaldo de cobre
Objetivo eramic n2O3, objetivo de pulverización de óxido de indio con placa de respaldo de cobre
Objetivo eramic n2O3, objetivo de pulverización de óxido de indio con placa de respaldo de cobre

Objetivo eramic n2O3, objetivo de pulverización de óxido de indio con placa de respaldo de cobre

verify
191,10 €
Pedido mínimo: 1 unidad

Categorías principales

Metales y productos de metal
Metales y productos de metal
Metal no ferroso
Metal no ferroso
Malla de alambre
Malla de alambre
Hierro y productos de hierro
Hierro y productos de hierro
Acero al carbono
Acero al carbono
Acero inoxidable
Acero inoxidable
Acero de aleación
Acero de aleación

Sobre objetivo de pulverización in2o3 óxido de indio

Cooig.com ofrece los productos 22 objetivo de pulverización in2o3 óxido de indio. Una amplia variedad de opciones de objetivo de pulverización in2o3 óxido de indio está disponibles para usted, como por ejemplo grado industrial.

Búsquedas Relacionadas:

óxido de niobio 99,99%óxido verde de cromoóxido de cromo verde cr2o3óxido de cobalto de alta purezaóxido de cromo verde 99,0%óxido de cromo 99% verdeÓxido de indio 99,995%óxido de indio de alta pureza In2O3óxido de cromo(III) verdeóxido de zinc para farmacéuticaóxido de antimonio Sb2O3óxido de cromo amarilloprecio del óxido de cromo verdeóxido de cromo metalúrgico verdefábrica de óxido de cromo verde