El Sistema de deposición de vapor químico de plasma de microondas se utiliza para películas de diamante monocristalinas y policristalinas
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Atributos clave
Otros atributos
Lugar del origen
Henan, China
Garantía
1 año
Soporte personalizado
OEM
Marca
TN
Número de Modelo
TN-MPCVD
Tamaño
1250*800*2100mm
Material
Acero inoxidable
Peso
500kg
Nombre del producto
Deposición de vapor químico de plasma de microondas
Palabras clave
Deposición de vapor químico
Frecuencia de microondas
2,45 ± 0,1 GHz
Potencia de salida
1.5-10KW
Tamaño de la tabla de muestra
Platina de molibdeno DIAM 85mm
Flujo de agua de refrigeración
> 50 L/min
Temperatura del sustrato
250 ~ 1400 grado
Canal de gas
MFC de 4 canales
Medición de temperatura
Termómetro infrarrojo, gama 300-1400 Sistema operativo
Sistema operativo
Control del PLC, control de la pantalla táctil de 15 pulgadas
Embalaje y entrega
Unidades de venta:
Un solo artículo
Tamaño de paquete único:
125X80X210 cm
Peso bruto único:
500.000 kg
Plazo de entrega
Descripciones de productos del proveedor
1 - 1 conjuntos
EUR 164,840.29
>= 2 conjuntos
EUR 156,505.67
Cantidad
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