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De Metal Semiconductor y aislante película Confocal vacío PVD magnetrón pulverización sistema

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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. 7 yrs CN
De Metal Semiconductor y aislante película Confocal vacío PVD magnetrón pulverización sistema
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Atributos clave

Especificación esencial de la industria

Revestimiento
Revestimiento de Sputtering de Plasma
Voltaje
220 VAC
Energía (HP)
2000 W

Otros atributos

Tipo
Pistola de spray de revestimiento
Garantía
Un año
Peso (KG)
350
Sustrato
Acero
Video saliente de inspección
Siempre
: Informe de prueba
Siempre
Los componentes principales.
PLC, Motor, De la bomba
Lugar del origen
Henan, China
Marca
TN
Dimensión (L*W*H)
1100*900*1450mm
Clave de puntos de venta
Precio competitivo
Tipo de máquina
Equipo de recubrimiento
Aplicación
Preparación de semiconductores y aisladores de metales
Tecnología
Sputtering del magnetrón
Palabras clave
Sistema de pulverización catódica de magnetrón
Color de revestimiento
El Requisito de clientes
Tecnología de recubrimiento
Recubrimiento de magnetrón de vacío
Nombre del producto
Sistema de pulverización catódica de magnetrón
Cantidad mínima del pedido (MOQ, por sus siglas en inglés)
1
Modelo
CY-VTC-3HD
Tamaño DE LA CÁMARA
300mm Dia.* 300mm H.
Entrenamiento
Entrenamiento de operación

Embalaje y entrega

Paquete
Plastic paper inside, polyfoam filled, wooden box outside or as your requirement.
Puerto
Qingdao, Shanghai etc.

Capacidad de suministro

Capacidad de suministro
200 Set/s per Month
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Plazo de entrega

Descripciones de productos del proveedor

1 - 9 conjuntos
EUR 39,002.16
>= 10 conjuntos
EUR 31,201.73

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